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干法去胶设备全球第二,这家半导体设备公司登陆科创板上演“开局即巅峰”?

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发布时间:2025年07月16日 浏览量:12次 所属栏目:物联网 发布者:田佳恬


近日,屹唐半导体在科创板上市,首日便获得174.56%的涨幅,盘中最高(即开盘价)曾到26.2元,在二级市场引起“哄抢”。

屹唐股份成立于2015年,深耕晶圆加工设备领域,核心产品包括干法去胶设备、快速热处理设备及干法刻蚀设备,全面服务于逻辑芯片、存储芯片(DRAM/闪存)等高端制造环节。

屹唐股份的发展历程离不开国资的大力支持,2015年便是在北京亦庄国际投资发展有限公司的支持下宣告成立,20165月,在亦庄国投的指导下,屹唐股份以3亿美元收购了美国半导体设备供应商Mattson Technology,此次收购让屹唐股份一举获得干法去胶、快速热处理等核心技术及全球客户渠道(包括台积电、三星等),填补国内高端设备空白。

2018年,又是亦庄国投给屹唐股份注入了天使轮投资。

之后,屹唐股份在技术实力上的显著提升又吸引了海松资本、招银国际资本、鸿道投资、金浦投资、GPE源峰、中科图灵等多家大机构的入驻,完成了A轮、B轮、C轮等多轮次融资。

并在20216月首次申请科创板IPO,但由于一些原因IPO20221月被终止。

202410月由于审计机构涉案的原因,屹唐股份二次IPO再次中止。随后,在更换审计机构之后,屹唐股份的第三次IPO终于在20253月获得证监会注册批复,并于202578日正式登陆科创板,上市首日市值最高超过700亿元。

至今,屹唐股份已经构建了以中国为总部、覆盖中美德三地的研发与制造基地,依托全球化研发体系,其高产能真空晶圆传输平台技术实现反应腔体高效衔接,双晶圆反应腔设计等446项专利支撑了设备性能国际领先。近三年研发投入占比超15%2024年达7.17亿元),技术团队占员工总数29%,核心成员均来自应用材料、英特尔等国际巨头,具备20年以上行业经验。

截至目前,屹唐股份的干法去胶设备全球市占率达到34.6%,快速热处理设备全球市占率超过13%,二者均位居全球第二。干法刻蚀设备跻身全球前十,是国内唯一同时量产等离子体与晶圆热处理设备的厂商。

根据屹唐股份招股说明书数据,截至2024年底,屹唐股份半导体设备全球装机量超4800台,客户覆盖台积电、三星、中芯国际等全球十大芯片制造商,中国大陆收入占比达66.67%2024年营收46.33亿元,净利润同比激增74.78%

干法去胶设备是半导体前道制造中的关键设备,主要用于通过等离子体技术去除晶圆表面的光刻胶。其核心原理是通入高纯度氧气(O?)或混合气体(如O?/Ar),在射频电场(通常13.56MHz)激发下产生等离子体,通过高活性原子氧与光刻胶(C?H?)发生氧化反应,生成挥发性气体(CO?H?O),由真空系统抽除。相较于湿法去胶(依赖化学溶剂溶解),干法去胶具备高效率、低损伤、无化学残留、环保等优势,尤其适用于先进制程中对精度要求极高的场景。

2023年全球去胶及热处理设备市场约30亿美元,其中中国干法去胶设备市场规模达45亿元,预计2025年增至60亿元。在半导体设备中,干法去胶虽仅占前道设备总规模的0.9%,但作为前道六大核心设备之一,直接关联芯片良率,是国产替代的关键环节,政策支持力度大。

但干法去胶设备全球竞争格局高度集中,CR5占比超90%,头部企业包括泛林集团(约40%)、屹唐半导体(34.6%全球第二)、东京电子(约15%)等;中国市场本土企业如屹唐、北方华创加速渗透,2024年国产化率约35%,但外资仍主导高端领域。

半导体热处理设备用于晶圆制造中的高温工艺(如退火、氧化、扩散、合金化),通过精确控温(±0.1℃)和气氛调控,优化材料电学性能与可靠性。核心设备包括快速热处理(RTP)设备、氧化/扩散炉、栅极堆叠设备等。

在热处理设备市场中,绝大部分市场被国外巨头占据,如应用材料(AMAT)、东京电子(TEL)、泛林(Lam)占全球份额超70%,垄断≤7nm高端设备。国内企业北方华创氧化炉市占率国内第一,28nm成熟制程全覆盖,屹唐半导体的RTP设备全球份额13.05%2024年),中微公司的栅极堆叠设备进入中芯14nm产线验证阶段。但总体国产化率约在20%左右。

此次,屹唐股份科创板IPO募资25亿元,将用于高端设备研发及制造服务中心建设,进一步强化国产替代与国际竞争力,未来,半导体设备国产化率不断提升的同时,也将向高端方向演进。

 

 


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